硅烷偶联剂 是有硅1氯1仿和带有反应性基团的不饱和烯烃在催化下加成，经过醇解后制取，国内有KH550、KH560、KH570、KH602等几种型号。硅烷偶联剂含有两个基团，一个是可水解的基团（与无机物反应），一个是有机官能团（与有机物反应），由于能在无机物和有机物中间建立联系，因此称为“硅烷偶联剂”。密封胶硅烷偶联剂广泛用于改进密封胶的密封性，以及提高对无机材料如金属、玻璃和石材的粘合性。

硅烷偶联剂种类不同，1大的种类是含硫硅烷偶联剂，主要应用在轮胎 领域，其次是氨基类硅烷偶联剂，基本为通用类，可以应用于玻璃纤维 和无机材料填充塑料 等产品，其他品类还包括乙烯基硅烷偶联剂、甲1基酰氧基类等种类，但是用量都比较少。硅烷偶联剂主要应用在子午线轮胎 ，主要品种是含硫硅烷偶联剂，2010年含硫类硅烷偶联剂的产能大约为4万吨左右，产量大约为3万吨左右，国内需求大约为4万吨左右，因此每年需进口1万吨左右的含硫硅烷偶联剂。硅烷偶联剂在电化学材料中的应用：硅烷偶联剂对于电化学材料的影响的研究不是特别多，华南师范大学研究了硅烷偶联剂在镁电极固封中的作用，可以改善镁电极的性能。

硅烷偶联剂应用研究

硅烷偶联剂在新材料中的应用研究

硅烷偶联剂的应用面极广，可以处理有机材料，也可以处理无机材料，通过硅烷偶联剂的处理后材料的某些性能会得到显著提高。以下介绍几种硅烷偶联剂的在新材料中的具体应用研究。

在光材料中的应用

西安交大重点研究了硅烷偶联剂对太阳电池铝浆性能的影响及分析，当硅烷偶联剂为2.5%时，有机载体的表面张力可从约30 mN/m 降低至25.69 mN/m，提高了铝1粉颗粒之间以及铝膜与硅片之间的黏附作用，从而减少划痕和灰化，进而可使铝电极的接触电阻由0.60 Ω 降低至0.19 Ω。硅烷偶联剂的应用一般有三种方法：一是作为骨架材料的表面处理剂。

有学者将目光对准了玻璃的发光性能，这种玻璃是硅烷偶联剂改性的芪3 掺杂铅-锡-氟磷酸盐的玻璃。将含有芪3的改性SnF2粉末掺入低熔点铅锡氟磷酸盐玻璃，获得了芪3掺杂的有机/无机杂化玻璃，这种玻璃有更好的投射性和均匀性。

在纳米级材料及复合材料中的应用

复合材料由于其优异的性能，越来越受到大家的青睐，但是复合材料的固有缺点不能消除，通过利用硅烷偶联剂的加入可以制备性能更佳的复合材料。纳米材料中加入偶联剂后就像增强体一样，可以显著提高材料性能。

用硅酸钠制备纳米SiO2乳液，用氯化铵控制粒径大小,然后与天然胶乳共混共沉制备出SiO2/NR复合材料。经过硅烷偶联剂处理的纳米SiO2 在复合材料中分散均匀，力学性能较好。除了无机复合材料，在纳米氧化锌制备中也加入了硅烷偶联剂，采用的硅烷偶联剂有KH550、KH 560、KH 570对纳米ZnO进行了改性，研究表明硅烷偶联剂KH570改性效果较好，改性后纳米ZnO 粉体表面包覆了KH 570，晶型没有发生明显改变但分散性变好。硅烷偶联剂主要应用在子午线轮胎，主要品种是含硫硅烷偶联剂，2010年含硫类硅烷偶联剂的产能大约为4万吨左右，产量大约为3万吨左右，国内需求大约为4万吨左右，因此每年需进口1万吨左右的含硫硅烷偶联剂。

除了制备纳米级的材料的研究，在复合材料中也有应用，如偶联剂在复合水泥砂浆中应用研究，研究结果表明，0.5%-1%硅烷偶联剂的水溶液能较大幅度地提高多种复合水泥砂浆的抗折强度和抗拉强度，且能提高普通水泥砂浆和聚合物改性水泥砂浆的稠度，但会使其分层度略有增大。又如采用硅烷偶联剂KH-550对废环氧模塑料粉(废EMC粉)进行表面改性并制备了相应的改性废EMC粉/PVC复合材料，提高了拉伸强度、冲击强度和弯曲强度，而且也大大改善了废EMC 粉和PVC之间的相容性，提高了界面结合强度。经过硅烷偶联剂处理的纳米SiO2在复合材料中分散均匀，力学性能较好。

硅烷偶联剂在纳米级材料及复合材料中的应用

用硅酸钠制备纳米SiO2乳液，用氯化铵控制粒径大小,然后与天然胶乳共混共沉制备出SiO2/NR复合材料。经过硅烷偶联剂处理的纳米SiO2 在复合材料中分散均匀，力学性能较好。

硅烷偶联剂kh-560使用用途

硅烷偶联剂kh570应用及性能

1.硅烷偶联剂kh-560增强基于环氧树脂电子密封剂和封装材料及印刷电路板的电性能，提高树脂与基体或填充剂之间的粘结力

2.硅烷偶联剂KH-560能够增强许多无机物填充的尼龙，聚丁烯对苯二酸酯在内的复合材料的电学性能。 对范围广泛的填充剂和基体，象粘土、滑石、硅灰石、硅石、石英或铝、铜和铁在内的金属都有效。包括：用石英填充的环氧密封剂、预混配方，用砂填充的环氧树脂混凝土修补材料或涂层和用于制模工具和金属填充的环氧树脂材料。用硅酸钠制备纳米SiO2乳液，用氯化铵控制粒径大小,然后与天然胶乳共混共沉制备出SiO2/NR复合材料。

3.硅烷偶联剂kh570免除了对多硫化物和聚氨酯密封胶和嵌缝化合物中独立底漆的要求。